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原子级平整硅基底的制备

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采用 RCA方法与 Piranha溶液处理相结合 ,对单晶硅表面超声腐蚀处理 ,接触角、原子力显微镜(AFM)表征结果显示获得了平整高羟基密度的氧化物表面 .采用水相硅烷化 ,将 3 -氨基丙基 -三甲氧基硅烷(APS)组装在湿化学法处理的单晶硅表面上 ,AFM和 X-射线光电子能谱 (XPS)

著录项

来源
《河北师范大学学报：自然科学版》|2002年第4期|387-389|共4页
作者
吴育飞; 胡瑞省;
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作者单位

河北师范大学化学学院;

石家庄师范专科学校化学系;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类表面处理;
关键词
硅基底; 制备; 自组装性能; 原子级平整表面; RCA方法; Piranha溶液处理; 半导体材料;
入库时间 2022-08-20 20:54:23

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