用椭圆偏振光方法研究铬薄膜的氧化过程

摘要

应用空心阴极离子镀膜技术，制备了纯铬薄膜样品，样品可在不同的测量和时间下进行退火处理。同时庆用椭圆偏振测量术的多角入射法对Ｃｒ薄膜氧化层的厚度进行了测定，讨论了退火温度和退火时间对其氧化的影响。