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表面粗化工艺对IPMC的制备及性能的影响

             

摘要

基于二次渗透还原法对IPMC材料的制备进行研究.探索3种不同的基膜表面粗化方法对IPMC材料特性的影响.表面粗化方法包括手工打磨、砂光机打磨以及等离子体表面处理方法.通过样件实测对3种不同粗化条件下获得的IPMC材料的外观特征、微现形貌、驱动变形特性以及表面电阻特性进行了测试和比较.实验结果表明,随着表面粗化均匀程度的提高,基膜表面及内部金属沉积均匀与致密性增高,材料的驱动变形能力降低.在一定的驱动电压范围内,IPMC材料的变形与电压近似成线形增加的关系.在相同的尺寸、约束以及驱动电压(3V)条件下,手工打磨的样件能够产生60°的弯曲变形,砂光机打磨样件为45°,而等离子体处理的样件只有15°.

著录项

  • 来源
    《功能材料 》 |2008年第11期|1933-1936|共4页
  • 作者单位

    南京航空航天大学,智能材料结构航空科技重点实验室,江苏,南京,210016;

    南京航空航天大学,智能材料结构航空科技重点实验室,江苏,南京,210016;

    南京航空航天大学,智能材料结构航空科技重点实验室,江苏,南京,210016;

    南京航空航天大学,智能材料结构航空科技重点实验室,江苏,南京,210016;

    南京航空航天大学,智能材料结构航空科技重点实验室,江苏,南京,210016;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 仪器分析法(物理及物理化学分析法) ;
  • 关键词

    IPMC; 表面粗化; SEM分析 ;

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