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磁控溅射基片低温冷却法制备NiOx纳米微晶薄膜

     
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摘要

利用自行设计的基片液氮低温冷却装置,用金属Ni靶在Ar+O2气氛反应条件下,利用磁控溅射制备纳米微晶结构NiOx膜的方法,薄膜的XRD谱和扫描电子显微图像(SEM)表明,该方法实现了在溅射参数完全相同的条件,纳米NiOx薄膜结构连续可控、可调节.

著录项

  • 来源
    《功能材料》|2008年第10期|1618-1621|共4页
  • 作者

    王怀义; 刁训刚; 王武育; 杨海刚; 丁破; 郝维昌; 王天民;

  • 作者单位

    北京航空航天大学,理学院,凝聚态与材料物理研究中心,北京,100083;

    北京印刷学院,基础部,北京102500;

    北京航空航天大学,理学院,凝聚态与材料物理研究中心,北京,100083;

    北京有色金属研究总院,北京100088;

    北京航空航天大学,理学院,凝聚态与材料物理研究中心,北京,100083;

    北京航空航天大学,理学院,凝聚态与材料物理研究中心,北京,100083;

    北京航空航天大学,理学院,凝聚态与材料物理研究中心,北京,100083;

    北京航空航天大学,理学院,凝聚态与材料物理研究中心,北京,100083;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 薄膜的生长、结构和外延;
  • 关键词

    磁控溅射; 纳米微晶; NiOx薄膜;

  • 入库时间 2023-07-24 20:45:57

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