V2O5在γ—Al2O3表面上自发分散动力学研究

摘要

本文应用X射线衍射法定量测定V_2O_5晶相在γ-Al_2O_3上自发分散量随焙烧时间的变化,提出V_2O_5在γ-Al_2O_3上的自发分散动力学方程为:C_0-C=Bln(τ+1)+△C_1,并且说明在自发分散初期存在一快速分散过程。