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低强度X射线成像仪性能的影响因素的研究

         

摘要

本文从理论分析和实验研究入手,对刚问世的低强度X射线成像仪(Lixis-lope)进行深入地探讨,给出C_sI光电阳极的x射线响应特性、制备工艺和最佳涂层条件,综合地分析和研究了影响成象仪像质的各种因素,其中包括X射线管焦斑,像增强器阴极,板屏间近帖间距及电源系统等。同时实验研制出了一台手提式低强度X射线式像仪样机。

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