采用热丝化学气相沉积法制备SiCN薄膜的研究

摘要

采用热丝化学气相沉积(HFCVD)系统,在单晶Si衬底上制备SiCN薄膜.所采用的源气体为高纯的SiH4,CH4和N2.用原子力显微镜(AFM)、X线衍射谱(XRD)和X线光电子能谱(XPS)对样品进行表征与分析.研究结果表明:SiCN薄膜表面由许多粒径不均匀、聚集紧密的SiCN颗粒组成;薄膜虽然已经晶化,但晶化并不充分,存在着微晶和非晶成分,通过Jade软件拟合计算出薄膜的结晶度为48.72%;SiCN薄膜不是SiC和Si3N4的简单混合,薄膜中Si,C和N这3种元素之间存在多种结合态,主要的化学结合状态为Si-N,Si-N-C,C-N,N=C和N-Si-C键,但是,没有观察到Si-C键,说明所制备的薄膜形成了复杂的网络结构.