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透射干涉法测量蓝宝石上薄外延硅层的厚度

         

摘要

利用光波的透射干涉原理,提出了一个测量亚微米内蓝宝石上外延硅层厚度的方法,使用不同仪器,在各种波长范围内,对该方法同反射干涉测量法、扫描电镜断面直接测量法进行了比较.结果证明,透射干涉测量薄外延硅层厚度方便易行,精度与反射法相同.

著录项

  • 来源
    《应用科学学报》 |1984年第2期|170-174|共5页
  • 作者单位

    中国科学院上海冶金研究所;

    中国科学院上海冶金研究所;

    中国科学院上海冶金研究所;

    中国科学院上海冶金研究所;

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  • 正文语种 chi
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