首页> 中文期刊> 《应用光学》 >狭缝宽度与取样间隔对镶嵌铜多孔铝膜透射光谱的影响

狭缝宽度与取样间隔对镶嵌铜多孔铝膜透射光谱的影响

         

摘要

用阳极氧化的方法制备了阳极氧化铝膜,向其孔中镀入了铜,制备了镶嵌铜多孔铝膜.为了研究狭缝宽度与取样间隔对其透射光谱的影响,利用岛津UV-3101型分光光度计,测得了相同取样间隔不同狭缝宽度和相同狭缝宽度不同取样间隔情况下镶嵌铜多孔铝膜的透射光谱,并分析了狭缝宽度和取样间隔对透射曲线的影响,得到了测试镶嵌铜多孔铝膜所需合适的狭缝宽度和取样间隔.测试结果表明:对镶嵌铜多孔铝膜而言,在可见光波段选择3 nm的狭缝宽度和0.5nm或1 nm的取样间隔为宜;在近红外波段选择5 nm或8 nm的狭缝宽度和2 nm的取样间隔为宜.

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号