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祝祖送1; 尹训昌1; 尤建村1;
[1]安庆师范大学物理与电气工程学院 安徽安庆246133;
二硫化钼; 化学气相沉积; 晶化质量; 均匀性;
机译:加工参数对APCVD制备的单层MOS2在加入坩埚中的影响
机译:大面积高质量的MOS2单层,由硫磺计数器流动扩散生长
机译:S空置工程化电子和光电性能的Ni掺杂MOS2单层:杂交功能研究
机译:在单层MOS2晶体管中接近单层MOS2晶体管的弹道传输,具有自对准的10nm顶部栅极
机译:大型单层MoS2的生长和光电性能。
机译:通过APCVD探索改善大型高质量单层MoS2的生长
机译:APCVD影响大型单层MOS2生长的因素研究
机译:单层mOs2和石墨烯表面化学传感的密度泛函理论研究(后印刷)。
机译:电镀法合成自控MoS2单层的方法和使用自控MoS2单层的晶体管
机译:电镀法合成自控MOS2单层的方法及其自耦MOS2的晶体管的合成
机译:使用Cu / Ni多催化剂和石墨烯装置生长高质量单层石墨烯的方法
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