分析不同边长光学微腔内横模模场分布

摘要

本论文使用FullWAVE 4.0软件中的二维FDTD法模拟了有效折射率为3.2,对边长为5μm和边长为3μm的等边三角形光学微腔模式分布状况.对腔内的横模模场进行分析,发现边长为5μm的等边三角形微腔和边长为3μm的等边三角形微腔在低阶模时,光线在三角形边界上几乎发生全反射,但随着模阶数的增大光线的透射逐渐增强,能量损失逐渐变大,在腔内很难形成稳定的模式分布,这说明这两种边长的等边三角形微腔是有利于基模工作.并比较两种边长的等边三角形光学微腔模场分布状况,分析了可能导致的几个原因.