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半导体腐蚀进程中表面液层热对流信息的红外表征

             

摘要

研究了半导体腐蚀过程中液层的红外热像分布特性.经处理分析,实现了对任意时刻表面液层的热对流信息的红外表征.半导体腐蚀过程中产生的化学反应会有热量的释放或吸收,这会引起液层之间能量的交换,从而导致腐蚀液温度的变化.利用红外热像仪可以实时监测这一特性,也可为深入分析、表征液层热对流奠定基础.实验结果表明,越靠近半导体材料与腐蚀液接触面的位置,液层的温度变化越显著,且以半导体材料为中心,由内而外呈梯度状降低,水平液层间的热对流速率明显大于竖直液层间的速率;提取的红外热像截面图可以清楚地表征水平液层及竖直液层的温度变化特性.该方法对分析任意时刻液层的热对流信息具有重要的价值.

著录项

  • 来源
    《红外》 |2007年第3期|1-4|共4页
  • 作者单位

    电子科技大学光电信息学院,四川,成都,610054;

    电子科技大学光电信息学院,四川,成都,610054;

    电子科技大学光电信息学院,四川,成都,610054;

    电子科技大学光电信息学院,四川,成都,610054;

    电子科技大学光电信息学院,四川,成都,610054;

    电子科技大学光电信息学院,四川,成都,610054;

    电子科技大学光电信息学院,四川,成都,610054;

    电子科技大学光电信息学院,四川,成都,610054;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 物理学;
  • 关键词

    红外热像; 化学腐蚀; 截面; 热对流;

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