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SmTbFeCo薄膜的制备及磁学性能研究

     

摘要

采用射频磁控溅射法在玻璃基片上成功制得了TbFeCo系列非晶垂直磁化膜,研究了溅射工艺对SmTbFeCo薄膜性能的影响.结果表明:溅射气压为0.5Pa、溅射功率为75w、厚度在100nm条件下所溅射形成的smTbFeCo薄膜磁性最优.

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