铂丝退火过程中的微观形貌演变和位错密度研究

摘要

cqvip:铂丝的微观形貌和位错密度与退火工艺密切相关,研究铂丝退火过程中微观形貌和位错密度的变化,可以优化退火工艺和提高铂丝电阻性能,为研发高性能铂电阻温度计提供支撑。研究表明:初始铂丝表面有黑色斑驳区域和划痕,有自生颗粒和外来颗粒。随着退火时间的延长,铂丝表面的黑色斑驳区域和划痕消失。退火过程中,铂晶粒晶界处的铂原子很不稳定,逐渐与碳原子形成含Pt和C的颗粒,晶界则变宽边深,产生许多孔隙;随着退火时间的延长,铂丝主体中的杂质元素只剩下C。初始铂丝晶粒的内部和晶界处均存在大量的位错,位错密度达到3.69×10^12 cm^-2,经历退火热处理后晶粒内部和晶界处的位错大量消失。铂丝被充分退火后,位错密度低至无法测出。