Al/Cu阻抗匹配状态方程测试靶制备工艺研究

摘要

采用轧制技术和真空扩散连接技术,成功实现了Al/Cu阻抗匹配状态方程测试靶的制备,通过原子力显微镜(AFM)、扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、台阶仪等测试方法,对样品结构及表面质量进行分析.结果表明:通过轧制技术制备的金属薄膜表面质量较好,表面粗糙度小于25 nm;扩散连接铝铜薄膜界面结合良好,为连续连接,扩散界面控制在150 nm以内.