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刘艳松; 许华; 李俊; 何智兵;
中国工程物理研究院激光聚变研究中心,四川绵阳621900;
磁控溅射; Mo涂层; 表面粗糙度; 工作气压; 惯性约束聚变;
机译:封闭场不平衡磁控溅射离子镀制备的溅射沉积MoS {sub} 2 /金属复合涂层的涂层特性和摩擦学性能
机译:通过使用金属有机前驱体的流化床化学气相沉积法制备U-Mo微球ZrN阻隔涂层
机译:磁控溅射在Ti6Al4V钛合金上制备的低摩擦纳米复合MoS_2Ti,MoS_2(Ti,W)涂层的耐腐蚀性
机译:磁控溅射MoS_2 /金属(Ti,Mo)纳米复合涂层的摩擦学性能
机译:磁控溅射金属涂层到弹性体基材上,以降低燃料渗透率。
机译:Ti6Al7Nb衬底上磁控溅射制备的Si-DLC涂层的表面特性和生物学评价
机译:PVD双磁控溅射制备Mo-Cr-N和Al-Cr-N涂层的比较研究
机译:添加到阅览室阅读软件下载与<<间歇磁控溅射法制备微球pt涂层的研究进展>>相似的文献
机译:制备玻璃表面的方法,特别是用于通过磁控溅射沉积薄金属涂层的玻璃板的方法
机译:还原电极,用于通过氧化还原反应将金属沉积在具有金属化表面的物体上,特别是用于微球的微球涂层
机译:用于有机LED的透明电极的制造方法,包括去除微球以暴露涂层或搪瓷的雕刻表面,在雕刻表面上沉积金属层,并抛光金属化雕刻表面
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