首页> 中文期刊>广州化工 >氧化石墨烯的制备及谱图分析

氧化石墨烯的制备及谱图分析

     

摘要

采用改进的Hummer法制备氧化石墨烯,并用原子力显微镜、红外光谱、衍射光谱、拉曼光谱、电子自旋共振波谱研究了它的表面形貌和谱学特征,并分析了其结构特点。结果表明:实验制备的氧化石墨烯为单层,其特征峰在10.6°,层间距为0.839 nm;表面分布着大量的含氧官能团;特征峰为D峰和G峰。氧化石墨烯存在自旋共振峰,在空气中稳定存在,表明氧化方法制备的氧化石墨烯存在缺陷。

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号