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王立萍; 张学锋; 杨晨;
东北大学理学院 辽宁沈阳110819;
中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司 辽宁沈阳110179;
直流磁控溅射; Nb膜; Si基底;
机译:反应磁控溅射涂覆(Alcrnbsitiv)N膜的微观结构和机械性能
机译:含Hf的NbSi基合金与具有不同微观结构的Y_2O_3陶瓷之间的高温润湿性和相互作用
机译:Mg-2(Sn,Si)膜的热电性能通过磁控溅射,具有不同的微观结构
机译:使用NB_3SI相位稳定性控制对CR,W,TA和Zr的Nb-Si基合金的微观结构控制
机译:溅射Ta膜中的杂质掺入,沉积动力学和微观结构演变。
机译:Nb-8.3Ti-21.1Si-5.4Mo-4W-0.7Hf(at。%)在共晶Nb硅化物基合金中的原始Nb5Si3类型和Nbss在αNb5Si3中的析出
机译:Nb-si基合金高温氧化的微观结构与动力学
机译:MoSi2-2WT%SiO2 / B添加的Mo5Si3-5WT%SIO2 / Mo-Nb-Si三元合金三层覆盖Nb基合金及其制造方法
机译:ZnS-SiO2基光学信息记录介质的介电膜及形成介电膜的溅射靶
机译:烧结的Ti-Nb基氧化物的溅射靶,Ti-Nb基氧化物的薄膜及其制造方法
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