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光电化学阴极保护的原理及研究进展

         

摘要

In this paper, the principle of photoelectrochemical cathodic protection technology was introduced briefly. The influencing factors summarized based on the main research reports in this field over years were proposed. Some of the research work of the author group's were also introduced briefly. Finally, further development and application of photoelectrochemical cathodic protection technology was prospected.%简要介绍了光电化学阴极保护技术的基本原理以及其影响因素,总结了历年来该方面的主要研究成果,并简要地介绍了笔者课题组在光电化学阴极保护方面的部分工作.最后,对光电化学阴极保护技术进一步的发展以及应用进行了展望.

著录项

  • 来源
    《装备环境工程》 |2017年第6期|1-7|共7页
  • 作者单位

    中国科学院海洋研究所 海洋腐蚀与生物污损重点实验室,山东 青岛 266000;

    中国科学院大学,北京 100049;

    中国科学院海洋研究所 海洋腐蚀与生物污损重点实验室,山东 青岛 266000;

    中国科学院大学,北京 100049;

    中国科学院海洋研究所 海洋腐蚀与生物污损重点实验室,山东 青岛 266000;

    中国科学院大学,北京 100049;

    中国科学院海洋研究所 海洋腐蚀与生物污损重点实验室,山东 青岛 266000;

    中国科学院海洋研究所 海洋腐蚀与生物污损重点实验室,山东 青岛 266000;

    中国船舶重工集团公司第七二五研究所 海洋腐蚀与防护国防科技重点实验室,山东 青岛 266101;

    中国船舶重工集团公司第七二五研究所 海洋腐蚀与防护国防科技重点实验室,山东 青岛 266101;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 材料;金属表面防护技术;
  • 关键词

    光电阴极保护技术; 光电半导体材料; 腐蚀防护;

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