声明
摘要
1．1研究背景
1．1．1海洋开发中的金属腐蚀和危害
1．1．2金属腐蚀与防护技术简介
1．2光电半导体材料简介
1．2．1固体能带理论
1．2．2半导体光电化学反应过程
1．3 TiO2纳米半导体材料简介
1．3．1纳米半导体材料
1．3．2 TiO2半导体材料概述
1．3．4 TiO2光电化学阴极保护研究进展
1．3．5 TiO2光电化学纳米抗腐蚀膜的制备
1．4 TiO2纳米薄膜改性方法
1．4．1贵金属沉积改性TiO2
1．4．3窄禁带半导体复合改性TiO2
1．4．4有机染料光敏化法改性TiO2
1．5本论文研究的意义和内容
2．1实验试剂和实验设备
2．1．1实验试剂
2．1．2实验仪器
2．1．3钛箔表面抛光预处理
2．1．4 304不锈钢试块的封装和打磨
2．2纳米膜材料的表征仪器
2．2．1扫描电子显微镜
2．2．2能谱仪
2．2．3 X射线衍射仪
2．2．4 X射线光电子能谱
2．3．1测试方法
2．3．2测试装置
第三章FeS2／TiO2纳米复合物制备及其光电化学阴极保护性能研究
3．1引言
3．2实验部分
3．2．3 FeS2／TiO2纳米复合物薄膜的表征
3．2．4光电化学性能和光生阴极保护性能测试
3．3结果与讨论
3．3．2 FeS2／TiO2纳米复合物的晶体结构分析
3．3．3 XPS分析
3．3．4光吸收性能分析
3．3．5光电流密度时间曲线分析
3．3．6开路电位时间曲线分析
3．3．7 Tafel极化曲线分析
3．3．8电化学阻抗谱分析
3．3．9纳米复合材料的光电化学阴极保护机理分析
3．4本章小结
第四章AgBiS2／TiO2纳米复合材料的制备及其光电化学阴极保护性能研究
4．1引言
4．2实验制备和表征
4．2．1二氧化钛纳米管薄膜的制备
4．2．2 AgBiS2／TiO2纳米复合物的制备
4．2．3 AgBiS2／TiO2纳米复合物薄膜的表征
4．2．4光电化学和光生阴极保护性能测试
4．3结果与讨论
4．3．1 XRD分析
4．3．2 SEM分析
4．3．3 XPS分析
4．3．4紫外可见吸收光谱分析
4．3．5光电流密度时间曲线分析
4．3．6开路电位时间曲线分析
4．3．7 Tafel极化曲线分析
4．4本章小结
第五章结论与展望
5．1结论
5．2展望
参考文献
致谢
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