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Huss.AA; Saye.M;
不详;
溅射蚀刻靶; 转台系统; 多层膜;
机译:通过溅射混合ZnO和AlN粉末靶制备的ZnO膜的湿蚀刻速率低
机译:ZnO和SnO2靶的相对靶溅射系统沉积的ZnO-SnO2透明导电膜
机译:化学计量的BaTiO3靶的同轴射频磁控溅射:薄膜生长过程中的局部再溅射和衬底蚀刻
机译:通过同时磁控溅射和等离子体蚀刻在水电解槽中的作用中的同时磁控溅射和等离子体蚀刻产生的质子交换膜上产生的纤维状结构
机译:溅射沉积的三氧化二铝-二氧化钛纳米层合膜的结构及其对膜行为的影响。
机译:直流磁控溅射性能的改进含保留Ar原子的Al掺杂ZnO多晶膜10nm厚的缓冲层
机译:通过反应溅射GaAs靶在石英衬底上的ZnO缓冲层上生长的高取向GaN膜
机译:通过氧化镍靶的直接离子束溅射生长的NiO交换偏置层
机译:一种用重掺杂硼和磷靶溅射P和N层的pin或nip非晶硅半导体器件的溅射方法
机译:溅射膜的制作方法及相反靶型溅射装置
机译:旋转圆筒型磁控溅射阴极靶组件,溅射阴极组件,溅射系统及使用该溅射膜的薄膜生产工艺
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