谈300 mm晶圆厂洁净室光刻区域环境中NH3和SO2的控制

摘要

在半导体业中,对生产作业环境要求极为严格,其中对AMC(Airborne Molecular Contamination)有更严格的控制要求.SO2和NH3属于AMC中的2种,即MA(分子酸)和MB(分子碱).主要讨论洁净室中NH3和SO2的含量对晶圆和光罩的影响,以及采取各种有效措施对其进行控制,满足先进制程对于产品生产的超高空气品质要求.