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张伟才; 韩焕鹏; 陈晨;
中国电子科技集团公司第四十六研究所,天津,300220;
硅; 各向异性; 湿法腐蚀; 缺陷;
机译:MEMS,纳米制造和研发的Dial-In'湿法工艺参数
机译:如何满足湿法工艺的新要求
机译:日本大学参观了最先进的MEMS研究站点,探讨了实用的MEMS研究
机译:兆声能量在MEMS单基板湿法工艺中的独特应用
机译:飞秒脉冲激光烧蚀和硅衬底上用于MEMS制造的3C碳化硅膜的图案化。
机译:腔箱SOI:具有预先图案盒的先进硅衬底用于单片MEMS制造
机译:1基于mEms扫描仪的微显示器的光学性能要求
机译:分子外延生长在Gaas和硅衬底上的低温Gaas的光电性能。
机译:性能要求估计程序,性能要求估计设备和性能要求估计方法
机译:检测方法例如在移动车辆的传动系统中,性能增强措施涉及在输出性能大于要求的性能时降低要求的性能,从而不超过最大性能
机译:用于燃料电池混合动力汽车的燃料电池装置的操作方法,涉及通过充电或放电储能单元补偿负载的瞬时性能要求和性能要求的参考值之间的差异。
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