蚀刻液水合肼还原除铜

摘要

将电路板厂废弃的蚀刻液,经氢氧化铜沉淀法回收大部分铜后,再采用水合肼还原,进一步除铜.反应温度为50℃,水合肼质量分数为3.0%,溶液pH为6.0,废液中铜的去除率可达98.5%,处理后废液中铜的质量浓度低于0.2 g/L,可作为碱性蚀刻液重复利用.