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周萍; 汪小琳; 伏晓国; 罗丽珠; 张延志;
无;
真空条件; 金属铀; 氧化膜; XPS; 抗腐蚀能力; 大气环境; 表面氧化; 热氧化处理;
机译:XPS和XAES研究通过脉冲未过滤阴极真空电弧工艺沉积的和生长的并掺有氮的四面体无定形碳膜
机译:真空沉积制备花青膜J-聚集体的XPS研究
机译:在Si(110)表面上形成热氧化膜期间XPS实时测量次氧化硅时间演变的过程
机译:电池粘附通过大气等离子体喷射电池的粘附到II-XPS和真空紫外光的效果和效果的跨芦荟膜表面分析
机译:未掺杂和W掺杂碳共沉积膜的热氧化:腐蚀行为和反应产物形成的研究
机译:TEM和XPS研究在Si(100)上蒸发的超薄TiDy / Pd双层薄膜中的真空退火现象
机译:SIMS和XPS对热氧化膜研究的具体贡献
机译:Xps和aEs研究真空热处理对氧化钚表面的影响
机译:通过在热氧化膜与SiC衬底之间的边界表面引入5X1019 cm-3或更高的氮浓度然后去除热氧化膜的碳化硅(SiC)半导体器件的制造方法
机译:用XPS和记录介质进行BPSG膜厚分析的程序记录BPSG膜厚度的方法。
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