40CrNi2MoA合金钢阴极电弧等离子沉积TiN/TiAlN薄膜及其性能

摘要

以40CrNi2MoA钢作为基体,通过阴极电弧等离子体沉积(CPAD)技术制备了TiN、TiAlN和TiN/TiAlN薄膜。通过扫描电镜、X射线衍射仪、纳米压痕仪、原子力显微镜、摩擦磨损试验、洛氏硬度计和电化学分析,对比了3种薄膜的组织结构、纳米硬度、表面粗糙度、耐磨性、附着力和耐蚀性。结果表明,TiN/TiAlN双层膜的综合性能最佳,其附着力为HF1级,摩擦因数为0.455,纳米硬度为36.59 GPa,表面粗糙度(Ra)为0.09μm。