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朱扬明; 李钰;
不详;
集成电路; 光刻; 相移技术;
机译:相移掩膜创新工艺技术在近场相移光刻中的应用
机译:利用相移光刻技术制备金属纳米网结构及其在触摸屏中的应用
机译:带有辊式掩模的连续相移光刻技术及其在透明导体制造中的应用
机译:衰减相移掩模中光学相移的优化及其在四分之一微米深紫外光刻中的逻辑应用,
机译:异常光学系统的制造技术和建模:近场相移光刻和等离子体传感器
机译:等离子诱导光刻技术在创作中的应用无残留图案和简单表面修饰的过程
机译:立体光刻技术在复杂脊柱外科中的应用立体光刻技术在复杂脊柱外科中的应用
机译:使用光学光刻和相移掩模制造的红外频率选择表面
机译:暗色调高透射率衰减相移掩模在193 NM光刻技术中用于0.1微米以下的逻辑器件接触孔图案的应用
机译:制造反射性光学元件的方法,反射性光学元件,EUV光刻技术以及操作光学元件和EUV光刻技术的方法,确定相移的方法,确定方法和层的方法
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