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纳米晶FeCuNbSiB带材巨磁阻抗效应研究

         

摘要

采用微机电系统(MEMS)技术,在玻璃基片上制备了单层结构500 ℃退火的FeCuNbSiB带材样品.在1~40 MHz下,研究了带材的巨磁阻抗(GMI)效应随外加磁场强度以及交流电流频率的变化关系.结果表明:纵向、横向巨磁阻抗效应变化率(GMI值)在5 MHz、1.2 kA/m和5 MHz、8 kA/m时,分别达到最大值15.6%和10.6%.

著录项

  • 来源
    《电子元件与材料》 |2009年第2期|32-34|共3页
  • 作者

    张彬; 曹莹; 周勇; 周志敏;

  • 作者单位

    上海交通大学,微纳科学技术研究院,微米/纳米加工技术国家级重点实验室,薄膜与微细技术教育部重点实验室,上海,200240;

    上海交通大学,微纳科学技术研究院,微米/纳米加工技术国家级重点实验室,薄膜与微细技术教育部重点实验室,上海,200240;

    上海交通大学,微纳科学技术研究院,微米/纳米加工技术国家级重点实验室,薄膜与微细技术教育部重点实验室,上海,200240;

    上海交通大学,微纳科学技术研究院,微米/纳米加工技术国家级重点实验室,薄膜与微细技术教育部重点实验室,上海,200240;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 磁性质;
  • 关键词

    巨磁阻抗效应; 纳米晶带材; 微机电系统;

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