多弧离子镀用于制备高质量的Ti-N膜

摘要

研究了多弧离子镀制备Ti N膜的重要工艺参数 (磁场、弧电流、偏压和氮气流量 )对膜层质量的影响 ,详细分析了它们影响膜层特性的原因。实验证明 ,提高弧电流的同时抑制液滴的产生 ,是提高膜层质量和生产效率的有效途径。