半导体缺陷工程

摘要

介绍了缺陷工程的概念，描述了几种重要半导体缺陷，如表面缺陷、界面缺陷、偏离化学配比等。提出了正面利用缺陷以提高器件的成品率和可靠性。重点阐述了化合物半导体中的位错行为及降低位锗的工艺技术，对与半绝缘ＧａＡｓ研究密切相关的ＥＬ２工程和ＩＴＣＧａＡｓ（倒转热转变）也作了简单介绍。