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孙秀菊; 李海玲; 励旭东; 任丙彦; 周春兰; 赵雷; 王文静;
中国科学院电工研究所;
北京100190;
河北工业大学;
天津300130;
北京市太阳能研究所;
北京100083;
ZnS薄膜; MgF2薄膜; 减反射薄膜; 真空热蒸发;
机译:通过溶胶-凝胶法制备的MgF2减反射涂层:薄膜制备和热致密化
机译:基板加热对蒸发MgF2 / ZnS减反射涂层的附着力和耐湿性以及高效硅太阳能电池性能的影响
机译:接近中性色的介孔双层减反射涂层的制备及其在晶体硅太阳能电池组件中的应用
机译:高速反应溅射法制备薄膜硅太阳电池表面形成的氧化锌。
机译:光致降解光伏级硅中光诱导降解的研究以及用于硅太阳能电池的多孔硅减反射涂层的开发
机译:低温ALD法制备的二乙基锌和1.5-戊二硫醇低温ALD制备ZnS超薄膜的结构和光学表征。
机译:PVD技术制备的ZnO / MgF2双层薄膜的光学性质
机译:添加到阅览室阅读软件下载与<<辉光放电分解制备离子镀和氢化非晶硼薄膜制备氢化非晶硅薄膜及其表征>>相似的文献。最终报告,1980年4月1日至1981年5月31日
机译:包括非晶硅氧化物粘合剂的MGF2光学薄膜,由其提供的光学元件以及制备MGF2光学薄膜的方法
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