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洪啸吟; 李钟哲; 刘丹; 吴兵; 卢建平; 段生权; 陈明; 王培清;
清华大学化学系;
无显影气相光刻; 光刻胶; 二氧化硅; 氢氟酸; 诱蚀剂; 诱蚀机理; 刻蚀反应; 分辨率;
机译:无显影气相光刻技术的进展
机译:透明导电氧化锌的气相气相沉积研究新进展
机译:Microlith Symposium报道了无铬相光刻,NGL,157nm的研究进展
机译:无显影气相光刻研究进展
机译:用于光电探测器和柔性电子的二硫化钼化学气相沉积生长的研究进展
机译:化学气相沉积(CVD)法合成碳纳米材料的研究进展
机译:无显影蒸气光刻(DFVP)的反应研究。
机译:燃烧化学气相沉积工艺沉积低成本,高质量,高温超导带的研究进展
机译:光刻胶气相显影的方法和设备
机译:用于研究的装置“气相-固相”中的相变动力学与气相的同位素组成分析
机译:使用去离子水的超声波加湿型预润湿装置的光刻胶显影进展
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