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陆梅君; 金晓亮; 毛智彪; 梁强;
上海宏力半导体制造有限公司;
可制造性设计; 光刻规则检查; 光学邻近效应修正; 设计规则; 制程窗口;
机译:基于AI的制造设计规则检查器和路径优化器,用于PCB生产准备和制造
机译:通过设计实验方法来优化晶圆制造中光刻的光刻胶涂层工艺
机译:检查零件重新设计的添加剂制造规则呈现的效果
机译:全芯片制造可靠性检查和校正(MRC〜(2 TM)) - 朝着带有低K_1光刻设计的可制造性的第一步
机译:半导体制造中光刻工艺和晶圆检查方案的三维建模
机译:通过热压印光刻技术设计和制造基于环的PDMS软探针用于生物系统中的传感和驱动力。
机译:聚合物膜厚度和腔体尺寸对压花过程中聚合物流动的影响:纳米压印光刻的工艺设计规则
机译:设计电路系统,扩展现有方法以评估电路设计的可行性,执行电路设计的可行性评估,完善电路设计的第一决策规则,形成电路设计的第二决策规则的方法电路设计,用于为多个预先设计的电路块组织设计者的经验数据,提高胶粘逻辑分配效率,并在设计块之间分配胶粘的多个逻辑元素,并分配胶粘逻辑以在集成电路设备设计中执行方案,转换特定于电路块的接口,选择电路收集器,设计一种包含使能设备测试以验证a正确操作的设备,并开发行为测试台,项圈接口和接口系统
机译:具有规则访问安全性的设计规则符合性检查和设计生成
机译:半导体制造设计规则漏洞检查可制造性优化设计
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