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陈旭南; 石建平; 康西巧; 罗先刚; 秦涛;
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室;
相移滤波; 投影成像光刻系统; 分辨力和焦深; 光能利用率;
机译:使用Lissajous图形和椭圆拟合技术以及Hilbert-Huang预滤波同时从两个干涉图中同时提取相移和相移
机译:纳米球面光刻技术研究二维图形化Ge纳米结构的退火
机译:使用近场相移光刻技术制造高频且低成本的表面声波滤波器
机译:小学生相移滤波提高光刻图形分辨率的研究
机译:使用可压缩聚合物的简单压印和光刻技术进行的新型微细加工。
机译:用常规的紫外光刻和微细加工技术制备具有窄缝孔的多层聚合物微筛
机译:采用软光刻技术的微细加工和微图案化
机译:用于相移光掩模的坯件,可用于在将光刻电路图形转移到晶圆上的过程中,通过在重复移动经过目标的基板上进行薄膜反应性溅射沉积来生产
机译:电子束光刻设备,用于光刻的图形数据创建设备,电子束光刻方法,用于光刻的图形数据创建方法以及程序
机译:具有自适应滤波器和相移器的VOR接收器,可提高精度
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