磁控溅射Fe-N单层膜的研究

摘要

本文研究了在不同温度的基片上进行磁控溅射 ,氮流量对Fe N薄膜的磁性和结构的影响。实验表明 ,基片温度为 2 0 0℃有助于提高Fe N薄膜的软磁性能。基片为室温和 10 0℃ ,氮流量在 0～ 2sccm范围内变化时 ,未发现γ' Fe4 N和α″ Fe16N2 ,薄膜中只有N在α Fe中的固溶体。基片温度 2 0 0℃ ,氮流量大于 1.0sccm时 ,薄膜中出现γ′ Fe4 N ,但仍未发现α″ Fe16N2 ,加氮后薄膜的软磁性能明显小于纯铁。当氮流量是 1.0sccm ,温度 2 0 0℃时 ,矫顽力达到最小值 ,Hc =30 6.6A/m。当氮流量是 0 .5sccm ,温度是 2 0 0℃时 ,饱和磁化强度达到 4πMs =2 .3T。