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Xianwu XIU; Zhiyong PANG; Maoshui LV; Ying DAI; Li'na YE; Shenghao HAN;
School of Physics and Microelectronics;
State Key Laboratory of Crystal Materials;
Shandong University;
Jinan 250100;
China;
Department of Space Science and Applied Physics;
Shandong University at Weihai;
Weihai 264209;
锌氧化物; 磁控管溅射; 氩压强; 含氧化氢杂质钼薄膜;
机译:在Ar和Ar-H_2混合气体中进行ZnO薄膜的RF溅射:掺入H在开发透明导电涂层中的作用
机译:巨氢作用对AR + H_2气氛中的RF磁控溅射制造的ZnO和共掺杂ZnO膜的结构和物理性质
机译:氢对Ar + H_2气氛中RF磁控溅射制备ZnO和Co掺杂ZnO薄膜的结构和物理性能的影响
机译:在各种O_2 / AR气体比下RF磁控溅射沉积的ZnO_(1-X)膜的组成,结构和电阻率
机译:Rf-sputtered Tetragonal Titium Titanate Films on silicon
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