Qmix、MTAD与EDTA去除根管玷污层的实验观察

摘要

目的:扫描电镜下比较Qmix、EDTA与MTAD去除根管壁玷污层的效果。方法:选择40颗离体单根管下颌前磨牙,距根尖14mm处截冠,采用S3镍钛锉预备到3S,将样本依照终末冲洗剂的不同随机分成4组:A组:5mL 0.9%的生理盐水冲洗1min(阴性对照);B组:5mL 17%EDTA溶液冲洗1min;C组:5mL MTAD溶液冲洗1min;D组:5mL Qmix溶液冲洗1min。根管预备完成后,将牙齿沿近远中向纵行分成两半,实验样本处理后在扫描电镜下观察根尖1/3(距根尖1~2mm)、根中1/3(距根尖6~7mm)、根上1/3(距根尖10~12mm)处根管壁玷污层情况,并对数据进行统计学分析。结果:B、C、D组与A组(对照组)比较,差异具有统计学意义(P<0.001);两两比较后,D组分别优于B组、C组,C组优于B组,差异均有统计学意义(P<0.001);各组根上1/3优于根中1/3,根中1/3优于根尖1/3(P<0.05)。结论:在本实验条件下提示:新型根管冲洗液Qmix能更有效地去除根管玷污层。