基片表面预倾角的测量方法

摘要

液晶分子在基片表面预倾角的大小对液晶显示器件的质量有很大的影响,预倾角大小的控制及测量是实现 STN 显示的关键技术之一。本文详细地介绍了测量预倾角的几种方法,比较了几种测量方法的优缺点。在 STN 显示中,一般要求2°～7°的表面预倾角,采用晶体旋转法并对计算公式进行适当的校正,可保证测量的精确度达±0.1°,且容易实现仪器化。