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韩伟; 何业东; 王德仁; 薛润东; 高唯;
北京科技大学;
School of Engineering;
阴极气膜微弧放电; 等离子体电解沉积; ZrO2-Y2O3; 陶瓷涂层;
机译:阴极等离子体电解沉积制备ZrO_2-Y_2O_3陶瓷涂层
机译:结合微弧氧化和阴极阴极真空电弧沉积技术在15SiCp / 2024铝基复合材料上进行DUPLEX Al2O3 / DLC涂层
机译:阴极微弧电沉积制备的Al_2O_3-Y_2O_3陶瓷涂层及其耐高温氧化性能
机译:微晶硅膜等离子体增强化学气相沉积等离子体放电的模拟
机译:在金属和陶瓷纤维上化学气相沉积陶瓷涂层。
机译:硅浓度对使用阴极弧蒸发沉积的Al-Cr-Si-N涂层性能的影响
机译:通过过滤的阴极真空弧沉积沉积的金刚石状碳涂层的光学和力学性能
机译:等离子弧沉积元素硼膜用作耐用不粘涂层
机译:用于表面三维恢复的阴极弧气相沉积涂层
机译:使用阴极电弧放电的薄涂层气相沉积设备
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