用PECVD在低温衬底上制备类金刚石碳膜

摘要

本文报道用ＲＦ ＰＥＣＶＤ在低温衬底上制备了类金刚石碳（ＤＬＣ０膜。研究了氢稀释、气体压力和ＲＦ功率对薄膜性质的影响。用光透射率、红外吸收谱和小角度Ｘ射线衍射谱分析了ＤＬＣ膜的结构和光学性质。结果表明，这样制备的ＤＬＸ膜是无定形态的，包含大量的Ｃ－Ｈ键，具有良好的透明性。厚度为２３０ｎｍ的ＤＬＣ膜的４在４８０ｎｍ后地可见光区和近红外区的透过率大于８３％，所得出的透明性。