非晶含氟聚合物薄膜的热稳定性

摘要

以Ｔｅｆｌｏｎ ＡＦ １６００为原料，用旋涂法制备了非晶含氟聚合物（ＡＦ）薄膜．通过扫描电镜（ＳＥＭ）、傅立叶转换红外（ＦＴＩＲ）光谱和Ｘ射线光电子（ＸＰＳ）光谱等手段对热退火前后的薄膜进行了表征所得薄膜具有无针孔，较光滑和平整的表面，３００℃退火后薄膜表面的均匀性进一步改善。ＡＦ薄膜在３００℃以下具有良好的热稳定性，在４００℃退火后ＣＦ３吸收峰强度稍有降低。在４００Ｃ退火后，其所含的ＣＦ３键合构型显著降低，ＣＦ２、ＣＦ等其它构型没有明显的变化，由于ＣＦ３基团的分解有少量无定型碳生成．