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蒋生蕊; 彭栋梁; 赵学应; 谢亮; 李强;
兰州大学;
磁控溅射; 高温氧化; (Ti; Al)N膜;
机译:直流磁控溅射,脉冲直流磁控溅射和阴极电弧蒸发沉积的Ti膜的结构和性能
机译:通过直流磁控溅射沉积的ZnO多晶膜的Al,Ga,In和Ti供体N型掺杂的化学趋势
机译:反应性直流磁控溅射从等摩尔Al-Cr-Mo-Si-Ti合金靶沉积的氮化物膜
机译:直流金属真空电弧沉积沉积的Ti-O膜增强了Ti6Al4V的耐腐蚀性
机译:原位光谱椭圆偏振法研究直流反应磁控溅射沉积的硅膜的结晶度和界面结构。
机译:外延Pd(111)/ Al2O3(0001)薄膜的超高真空直流磁控溅射沉积
机译:Xps和aFm研究直流磁控溅射制备的Ti-al-N涂层在不同氮气流速和沉积温度下的应用
机译:Ti6al4V金膜的失效机理及相间化学。第二部分。 Ti6al4V的蚀刻及其对蒸发金和商业胶粘剂的影响
机译:-//-用于Ti / Al和Ti / Al-Nd金属膜层图案化的TFT-LCD的多蚀刻方法
机译:磁控溅射膜沉积装置,磁控溅射膜沉积方法以及使用该方法制造的膜成员
机译:RF叠加直流磁控溅射沉积超薄ITO:Ce膜,膜的制备方法和包括其的触摸屏
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