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李瑞青; 古伟良; 周国治;
北京有色金属研究总院;
北京钢铁学院;
氮化硅陶瓷; 等离子体; 气相; 超细粉;
机译:使用超高频等离子体增强化学气相沉积技术在低衬底温度下生长的氮化硅膜的红外光谱研究
机译:晶体硅太阳能电池高频等离子体增强化学气相沉积氮化硅膜的研究
机译:与氮化硅氮化硅的自蔓延高温合成的Si-N键形成反应的气相性质
机译:使用单感应耦合等离子体反应器通过等离子体增强化学气相沉积法在碳纳米纤维表面合成环
机译:气相红外发射光谱法分析热等离子体中的硫酸根离子反应和反应动力学。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:射频增强等离子体化学气相沉积(RF pECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性质和沉积速率的影响
机译:Eco Logic International气相化学还原工艺:反应器系统。应用分析报告
机译:高频等离子体增强化学气相沉积反应器和进行等离子体增强化学气相沉积工艺的方法
机译:使用高频等离子体化学气相沉积法的圆形基板的涂层的质量合成装置和合成方法
机译:高频等离子体增强化学气相沉积反应器及其使用方法
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