平面磁控溅射法制备Co/Al多层膜的结构与磁性

摘要

本文用平面磁控溅射法制备了两个系列的Co/AI多层膜,并研究了这些多层膜的结构和磁性随Co层厚度(dCo)或AI层厚度(dAI)的变化关系。其结构主要是Co层表现出hcp结构的(002)织构和AI层表现出fcc结构的(111)织构。当dAI=24?而dCo在7～140?范围内变化时,试样的饱和磁化强度随dCo的减小而下降;当dCo=98?,而dAI在6～168?范围内变化时,试样的饱和磁化强度不随dAI的变化而变化;矫顽力随dCo或dAI变化呈现出先降后升的变化关系。本文对结果进行了分析,并给出了合理的解释。