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李一村; 舒国阳; 刘刚; 郝晓斌; 赵继文; 张森; 刘康; 曹文鑫; 代兵; 杨磊; 朱嘉琦; 曹康丽; 韩杰才;
哈尔滨工业大学航天学院,哈尔滨150001;
上海卫星装备研究所,上海200240;
单晶金刚石; 微波导离子体化学气相沉积; 界面; 拉曼光谱; PL光谱;
机译:添加氮的MPCVD生长富含C-13的金刚石单晶
机译:MPCVD从Ar / H-2 / CH2混合物中生长的微晶和纳米晶金刚石的室温PL表征
机译:在天然金刚石基材上由气相生长的单晶金刚石的表征
机译:烧结碳化钨基材上MPCVD金刚石涂层的生长和界面磨损性能
机译:掺磷金刚石薄膜的生长和表征:掺杂,电学表征,界面的EBIC表征和某些器件应用的影响
机译:MPCVD系统中300托压力下单晶金刚石的同质外延生长
机译:多层氮掺杂外延生长产生的CVD单晶金刚石的界面和机械性能
机译:单晶金刚石薄膜的生长,表征和器件开发
机译:在其上生长单晶金刚石的基础材料包括基础衬底,键合的单晶MgO层和异质外延膜,以及在该基础材料上制造单晶金刚石衬底的方法
机译:它从金刚石单晶中生长出单晶,金刚石单晶是类底物
机译:产生体积的单晶,包括将晶种置于具有初始生长表面和中心中心纵轴的生长坩埚的晶体生长区域中,以及通过沉积到晶种上来生长单晶。
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