TbFe_x薄膜的成分控制及其对磁结构的影响

摘要

利用直流磁控溅射工艺制备了T bF ex薄膜,通过改变溅射气压调节薄膜的成分,利用磁力显微镜研究了薄膜成分对畴结构的影响,最后从理论上讨论A r气压对磁致伸缩薄膜T bF ex成分的影响,并建立了理论模型。结果表明:A r气压在相当大的范围内影响着T bF ex膜的成分,当气压从0.2 Pa增加到0.6 Pa时,T b原子数百分比从30%增加到45%,磁力显微镜(M FM)观察到当T b含量减少时,在零场下的磁化强度由与膜面垂直方向变为平行于薄膜平面方向。