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吴一平; 乔学亮; 陈建国; 赵建生; 孙培祯;
华中理工大学;
薄膜; 多弧离子镀; 金属; 表面处理;
机译:Ti靶电弧电流对双靶阴极电弧等离子体沉积制备Ti掺杂ZnO薄膜性能的影响
机译:等离子弧和气相热解沉积法制备碳纳米结构的工艺技术特征
机译:加热工艺对化学溶液沉积法制备(Bi,La)_4Ti_3O_(12)薄膜的晶体取向和电性能的影响
机译:Si的结构和力学性能(Ti,Cr,Al)n涂层沉积弧离子电镀工艺
机译:利用低温等离子体工艺制备离子导电薄膜的研究
机译:通过脉冲激光沉积制备具有可调光学性能的超均匀Pb0.865La0.09(Zr0.65Ti0.35)O3薄膜
机译:离子束辅助沉积优化(Al,Ti)N薄膜形成工艺(物理,工艺,仪器和测量)
机译:离子束溅射沉积高(Tc)超导薄膜的离子散射和溅射工艺研究:沉积参数的优化。
机译:多组分薄膜的离子等离子沉积工艺,镶嵌靶的实现及靶制备工艺
机译:扩大用途的硬质合金切削刀具的离子等离子真空弧陶瓷Ti-Ni涂层的制备方法
机译:高频等离子体CVD工艺沉积薄膜的形成装置及沉积薄膜的形成
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