氨苄青霉素降解产物在汞膜电极上的伏安法研究

摘要

考察了氨苄青霉素在酸、碱条件下的降解产物于玻碳汞膜电极上的伏安行为 ,降解产物在醋酸缓冲溶液 ( p H5.5)的底液中均产生了灵敏的阴极还原峰 ,以碱降解条件为好。已将方法应用于模拟样品的分析。