TeO_x薄膜结构及短波长静态记录特性的研究

摘要

以真空蒸镀法在 K9玻璃基底上制备了 Te Ox 单层薄膜 .使用 X射线光电子能谱仪(XPS)、X射线衍射仪 (XRD)、原子力显微镜 (AFM)对薄膜的结构进行了分析 .实验结果表明 ,薄膜是由晶态 Te分散在非晶态 Te O2 基体中形成的混合体系 ,Te O2 基体的存在增强了Te的抗氧化性能 ;薄膜具有精细粒状结构和粗糙的表面 ;退火后薄膜的反射率增加和 Te向表面的偏析、重聚集及表面粗糙度的降低有关 .采用波长为 51 4.4nm的短波长静态记录仪对薄膜静态记录性能的测试结果表明 :薄膜具有良好的记录灵敏性 ,在记录功率 1 .5m W、脉宽50 ns时就可产生较高的反射率衬比 (度 ) .研究结果为选择合适掺和物使 Te Ox