有机前驱体热解合成Si_3N_4纳米带及其生长机制的研究

摘要

通过催化剂辅助有机前驱体热解,合成了单晶Si_3N_4纳米带。其工艺主要包括3个步骤:有机前驱体低温交联固化、高能球磨粉碎和高温热解。采用SEM、XRD、EDS、TEM和HRTEM等分析手段对Si_3N_4纳米带进行了详细的表征,对Si_3N_4纳米带的生长机制进行了深入的探讨。